Desarrollo de una novedosa técnica para la generación de microestructuras funcionales con precisión micrométrica

Investigadores de la UPV/EHU han desarrollado una novedosa técnica de fabricación de microestructuras tridimensionales con precisión micrométrica basada en la litografía por vacío. La técnica ha sido presentada en la revista ACS Applied Materials & Interfaces.

Los investigadores del grupo Microfluidics Cluster han desarrollado una técnica que permite crear microestructuras en un substrato plano más delgadas que un cabello humano, consiguiendo una resolución similar a la fotolitografía utilizada en la fabricación de microchip electrónico. Con moldes flexibles y presión negativa (vacío), los materiales líquidos o gelificados, como nanopartículas, geles sensibles y polímeros funcionales, se pueden moldear con una precisión menor de 25 micras, consiguiendo formas tridimensionales complejas y eficaces que se pueden copiar en un solo paso.

Además, esta técnica permite integrar en un único sustrato materiales diferentes a nivel funcional, con resolución micrométrica. Esto permite diseñar y fabricar temas personalizados multifuncionales sin perder precisión ni repetibilidad.

A diferencia de los métodos tradicionales, como la fotolitografía o la impresión 3D, la litografía por vacío combina la alta resolución, la versatilidad en el uso de materiales y la facilidad de operación, sin necesidad de equipos caros o procesos complejos.

Este nuevo método puede dar lugar a múltiples aplicaciones como sensores químicos y biológicos miniaturizados para el ámbito de la salud, el medio ambiente y la industria; cultivos celulares avanzados a través de plataformas que permitan investigar en microentornos controlados; modelado de nanopartículas de oro y polímero conductor en nanotecnología biomédica; o dispositivos portátiles de diagnóstico rápido.