Desenvolupament d'una nova tècnica per a la generació de microestructures funcionals amb precisió micromètrica

Els investigadors del grup Microfluidics Clúster han desenvolupat una tècnica que permet crear microestructures en un substrat pla més primes que un cabell humà, aconseguint una resolució similar a la fotolitografia utilitzada en la fabricació de microxip electrònic. Amb motlles flexibles i pressió negativa (buit), els materials líquids o gelificats, com a nanopartícules, gels sensibles i polímers funcionals, es poden modelar amb una precisió menor de 25 micres, aconseguint formes tridimensionals complexes i eficaces que es poden copiar en un sol pas.

A més, aquesta tècnica permet integrar en un únic substrat materials diferents a nivell funcional, amb resolució micromètrica. Això permet dissenyar i fabricar temes personalitzats multifuncionals sense perdre precisió ni repetibilidad.

A diferència dels mètodes tradicionals, com la fotolitografia o la impressió 3D, la litografia per buit combina l'alta resolució, la versatilitat en l'ús de materials i la facilitat d'operació, sense necessitat d'equips cars o processos complexos.

Aquest nou mètode pot donar lloc a múltiples aplicacions com a sensors químics i biològics miniaturitzats per a l'àmbit de la salut, el medi ambient i la indústria; cultius cel·lulars avançats a través de plataformes que permetin investigar en microentorns controlats; modelatge de nanopartícules d'or i polímer conductor en nanotecnologia biomèdica; o dispositius portàtils de diagnòstic ràpid.